ACM Research meddelte den 21. oktober 2026, at virksomheden har tilføjet genbrug af svovlsyre til sit 170 °C Hot Sulfuric Peroxide Mixture-system (SPM) til rensning af enkeltwafer. Leverandøren af halvlederudstyr oplyste, at det forbedrede system opnår en genbrugsgrad for svovlsyre på 70 %, samtidig med at det opretholder den partikelkontrol, kunderne kræver.
Vigtige pointer
- Den nye funktion genbruger 70 % af svovlsyren og opretholder samtidig ydeevnen inden for partikelkontrol, ifølge ACM.
- En støberikunde har valideret systemet på mere end 50 proceslag.
- ACM forventer, at genbrugsfunktionen sparer cirka 400 ton svovlsyre pr. værktøj om året.
Indholdsfortegnelse
- ACM Research sigter mod lavere kemikalieforbrug
- Partikelkontrol er fortsat central i designet
- Konklusion
ACM Research sigter mod lavere kemikalieforbrug
Opgraderingen skal reducere kemikalieforbruget ved at genvinde og genbruge svovlsyre under waferrensningen. ACM anslår de årlige besparelser til cirka 400 ton pr. værktøj og fremstiller tallet som en forventet fordel snarere end et rapporteret driftsresultat.
Virksomheden oplyste, at en støberikunde havde valideret systemet på mere end 50 proceslag, hvilket understøtter anvendelsen i en bred vifte af rengøringsprocesser. Meddelelsen identificerede ikke kunden.
SPM anvendes i halvlederfremstilling til at fjerne fotoresist, rester af organiske polymerer, metalliske urenheder og partikler samt til at rense wafere efter kemisk-mekanisk polering.
Partikelkontrol er fortsat central i designet
ACM oplyste, at virksomhedens Hot SPM-system til rensning af enkeltwafer opnår et partikelantal på højst 15 for partikler på 15 nanometer og derover. Den nye genbrugsfunktion opretholder ydeevnen inden for partikelkontrol i overensstemmelse med kundernes specifikationer, oplyste virksomheden.
Systemet anvender også et proprietært dysedesign, der skal forhindre forurening fra krystallinske aflejringer forårsaget af syretåge. Ifølge ACM gør dette design det unødvendigt med den periodiske rengøring af kammeret med deioniseret vand, som konventionelle systemer kræver.
ACM oplyste, at designet kan reducere behovet for vedligeholdelse af udstyret og bidrage til at forbedre udbyttet i logik- og hukommelsesapplikationer. Disse potentielle fordele er sammen med de forventede syrebesparelser fortsat virksomhedens forventninger.
Konklusion
Forbedringen kombinerer rengøringsydelse, der er valideret af en kunde, med genbrug af syre. ACM's forventede kemikaliebesparelser er en forventet fordel, ikke et realiseret årsresultat.
Læs flere nyheder
Flere nyheder fra FinanceVelix
Ansvarsfraskrivelse
Denne FinanceVelix-artikel indeholder generel information og udgør ikke personlig finansiel rådgivning, investeringsrådgivning, juridisk rådgivning eller skatterådgivning. Markedspriser, renter og økonomiske forhold kan ændre sig; investeringer indebærer risiko for tab. Oplysningerne afspejler det materiale, der var tilgængeligt på udgivelsestidspunktet, og kan ændre sig. Kontrollér vigtige oplysninger uafhængigt, og rådfør dig med en kvalificeret fagperson efter behov. Omtale af et aktiv, en virksomhed eller en tjeneste er ikke en anbefaling.




