ACM Research meddelade den 21 oktober 2026 att bolaget har lagt till återvinning av svavelsyra i sitt system för rengöring av enskilda wafers med varm svavelsyra-peroxidblandning (SPM) vid 170 °C. Leverantören av halvledarutrustning uppgav att det förbättrade systemet återvinner 70 % av svavelsyran samtidigt som kundernas krav på partikelkontroll uppfylls.

Viktiga punkter

  • Den nya funktionen återvinner 70 % av svavelsyran samtidigt som prestandan för partikelkontroll bibehålls, enligt ACM.
  • En gjuterikund har validerat systemet för fler än 50 processlager.
  • ACM räknar med att återvinningsfunktionen ska spara cirka 400 ton svavelsyra per verktyg och år.

Innehållsförteckning

ACM Research siktar på lägre kemikalieförbrukning

Uppgraderingen syftar till att minska kemikalieanvändningen genom att återvinna och återanvända svavelsyra vid waferrengöring. ACM uppskattar de årliga besparingarna till cirka 400 ton per verktyg och presenterar siffran som en förväntad fördel, inte som ett redovisat driftsresultat.

Bolaget uppgav att en gjuterikund hade validerat systemet för fler än 50 processlager, vilket talar för användning inom ett brett urval av rengöringstillämpningar. I meddelandet namngavs inte kunden.

SPM används vid halvledartillverkning för att avlägsna fotoresist, organiska polymerrester, metalliska föroreningar och partiklar samt för att rengöra wafers efter kemisk-mekanisk polering.

Partikelkontroll är fortsatt central i konstruktionen

ACM uppgav att dess system för rengöring av enskilda wafers med varm SPM uppnår partikelantal på högst 15 för partiklar som är 15 nanometer eller större. Den nya återvinningsfunktionen bibehåller prestandan för partikelkontroll inom kundernas specifikationer, enligt bolaget.

Systemet använder också en egenutvecklad munstyckskonstruktion som är avsedd att förhindra kontaminering från kristallina avlagringar orsakade av syradimma. Enligt ACM eliminerar konstruktionen behovet av den periodiska rengöring av kammaren med avjoniserat vatten som krävs i konventionella system.

ACM uppgav att konstruktionen kan minska underhållsbehovet för utrustningen och bidra till högre utbyte inom logik- och minnestillämpningar. Dessa potentiella fördelar och de beräknade syrabesparingarna är fortsatt bolagets förväntningar.

Slutsats

Uppgraderingen kombinerar rengöringsprestanda som validerats av en kund med återvinning av syra. ACM:s beräknade kemikaliebesparingar är en förväntad fördel, inte ett uppnått årsresultat.

Läs fler nyheter

Fler nyheter från FinanceVelix

Ansvarsfriskrivning

Den här artikeln från FinanceVelix innehåller allmän information och utgör inte personlig finansiell rådgivning, investeringsrådgivning, juridisk rådgivning eller skatterådgivning. Marknadspriser, räntor och ekonomiska förhållanden kan förändras; investeringar innebär risk för förlust. Uppgifterna återspeglar det material som fanns tillgängligt vid publiceringstillfället och kan förändras. Kontrollera viktig information självständigt och rådgör vid behov med en kvalificerad fackperson. Att en tillgång, ett bolag eller en tjänst nämns innebär inte att den rekommenderas.