ASML的EUV展望显示，2028年极紫外光刻系统出货量可能达到110台，高于2026年预测的65台。公司于2026年10月28日公布季度业绩时一并发布了这些预测，但其股价下跌。

要点

  • ASML预计2027年EUV系统出货量为85台，2028年可能达到110台。
  • 这些出货量数据是预测，并非已完成的交付。

ASML EUV系统出货量展望

这些预测预计未来两年每年的出货量都将增加。2028年的数据被描述为潜在目标，而非已确认的交付总量。

ASML还公布了季度业绩，但现有信息未提供季度营收或盈利数据。

项目详情
2026年预测65台EUV系统
2027年目标85台EUV系统
2028年潜在目标110台EUV系统

EUV系统对芯片制造商为何重要

ASML'的 EUV光刻系统 使用极紫外光在先进微芯片上印制复杂的层结构。该公司表示，其NXE系统用于在7纳米、5纳米和3纳米制程节点上制造基础层。

公告发布后，ASML股价下跌。现有信息无法确定股价变动的原因。

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