Výhled ASML v oblasti EUV naznačuje, že v roce 2028 by mohlo být dodáno až 110 systémů pro litografii v extrémním ultrafialovém záření, oproti prognóze 65 systémů v roce 2026. Společnost tyto projekce oznámila spolu se čtvrtletními výsledky 28. října 2026, její akcie však klesly.

Hlavní závěry

  • ASML předpověděla dodávky 85 systémů EUV v roce 2027 a potenciálně 110 v roce 2028.
  • Údaje o dodávkách jsou projekce, nikoli již uskutečněné dodávky.

Výhled ASML v oblasti EUV pro dodávky systémů

Projekce počítají s vyšším počtem dodávek v každém z příštích dvou let. Údaj pro rok 2028 je popisován jako potenciální cíl, nikoli jako potvrzený celkový počet dodávek.

ASML rovněž zveřejnila čtvrtletní výsledky, dostupné informace však neuvádějí údaje o čtvrtletních tržbách ani zisku.

PoložkaPodrobnosti
Prognóza pro rok 202665 systémů EUV
Cíl pro rok 202785 systémů EUV
Potenciální cíl pro rok 2028110 systémů EUV

Proč jsou systémy EUV pro výrobce čipů důležité

společnosti ASML litografické systémy EUV využívají extrémní ultrafialové světlo k tisku složitých vrstev pokročilých mikročipů. Společnost uvádí, že její systémy NXE se používají k výrobě základních vrstev v technologických uzlech 7 nanometrů, 5 nanometrů a 3 nanometrů.

Akcie ASML po oznámení klesly. Dostupné informace neprokazují příčinu tohoto pohybu akcií.

Číst další zprávy

Další zprávy FinanceVelix

Upozornění

Tento článek FinanceVelix poskytuje obecné informace, nikoli personalizované finanční, investiční, právní ani daňové poradenství. Tržní ceny, úrokové sazby a ekonomické podmínky se mohou měnit; investice jsou spojeny s rizikem ztráty. Fakta odrážejí informace dostupné v době zveřejnění a mohou se změnit. Důležité informace si ověřte nezávisle a v případě potřeby se poraďte s kvalifikovaným odborníkem. Zmínka o aktivu, společnosti nebo službě nepředstavuje jejich doporučení.