ACM Research mengumumkan pada 21 Oktober 2026 bahwa perusahaan telah menambahkan daur ulang asam sulfat ke sistem pembersihan Hot Sulfuric Peroxide Mixture (SPM) wafer tunggal bersuhu 170°C. Pemasok peralatan semikonduktor itu menyatakan bahwa sistem yang ditingkatkan tersebut mencapai tingkat daur ulang asam sulfat sebesar 70% sekaligus mempertahankan pengendalian partikel sesuai persyaratan pelanggan.
Hal-Hal Utama
- Kapabilitas baru ini mendaur ulang 70% asam sulfat sekaligus mempertahankan kinerja pengendalian partikel, menurut ACM.
- Seorang pelanggan pengecoran semikonduktor telah memvalidasi sistem tersebut pada lebih dari 50 lapisan proses.
- ACM memperkirakan kapabilitas daur ulang ini akan menghemat sekitar 400 ton asam sulfat per alat setiap tahun.
Daftar Isi
- ACM Research menargetkan pengurangan konsumsi bahan kimia
- Pengendalian partikel tetap menjadi fokus utama desain
- Kesimpulan
ACM Research menargetkan pengurangan konsumsi bahan kimia
Peningkatan ini ditujukan untuk mengurangi penggunaan bahan kimia dengan memulihkan dan menggunakan kembali asam sulfat selama pembersihan wafer. ACM memperkirakan penghematan tahunan sekitar 400 ton per alat, dengan menyajikan angka tersebut sebagai manfaat yang diharapkan, bukan hasil operasional yang telah dilaporkan.
Perusahaan menyatakan seorang pelanggan pengecoran semikonduktor telah memvalidasi sistem tersebut pada lebih dari 50 lapisan proses, sehingga mendukung penggunaannya dalam beragam aplikasi pembersihan. Pengumuman itu tidak menyebutkan identitas pelanggan.
SPM digunakan dalam manufaktur semikonduktor untuk menghilangkan photoresist, membersihkan residu polimer organik, pengotor logam, dan partikel, serta membersihkan wafer setelah pemolesan mekanis-kimiawi.
Pengendalian partikel tetap menjadi fokus utama desain
ACM menyatakan sistem Hot SPM wafer tunggalnya menghasilkan jumlah partikel sebanyak 15 atau kurang untuk partikel berukuran 15 nanometer ke atas. Menurut perusahaan, kapabilitas daur ulang yang baru mempertahankan kinerja pengendalian partikel dalam batas spesifikasi pelanggan.
Sistem ini juga menggunakan desain nosel eksklusif yang ditujukan untuk mencegah kontaminasi dari endapan kristal yang disebabkan oleh kabut asam. Menurut ACM, desain tersebut menghilangkan kebutuhan untuk pembersihan ruang secara berkala dengan air deionisasi, yang diwajibkan pada sistem konvensional.
ACM menyatakan desain ini dapat mengurangi kebutuhan pemeliharaan peralatan dan membantu meningkatkan hasil produksi dalam aplikasi logika dan memori. Potensi manfaat tersebut, bersama dengan proyeksi penghematan asam, masih merupakan ekspektasi perusahaan.
Kesimpulan
Peningkatan ini memadukan kinerja pembersihan yang telah divalidasi pelanggan dengan daur ulang asam. Proyeksi penghematan bahan kimia ACM merupakan manfaat yang diharapkan, bukan hasil tahunan yang telah terealisasi.
Baca Berita Lainnya
Penafian
Artikel FinanceVelix ini menyediakan informasi umum, bukan nasihat keuangan, investasi, hukum, atau pajak yang dipersonalisasi. Harga pasar, suku bunga, dan kondisi ekonomi dapat berubah; investasi mengandung risiko kerugian. Fakta mencerminkan materi yang tersedia saat diterbitkan dan dapat berubah. Periksa informasi penting secara mandiri dan konsultasikan dengan tenaga profesional yang memenuhi syarat bila diperlukan. Penyebutan suatu aset, perusahaan, atau layanan bukan merupakan bentuk dukungan.
