Il 21 ottobre 2026, ACM Research ha annunciato di aver aggiunto il riciclo dell’acido solforico al suo sistema di pulizia Hot Sulfuric Peroxide Mixture (SPM) a wafer singolo, operante a 170 °C. Il fornitore di apparecchiature per semiconduttori ha dichiarato che il sistema potenziato raggiunge un tasso di riciclo dell’acido solforico del 70%, mantenendo al contempo il controllo delle particelle richiesto dai clienti.
Punti chiave
- La nuova funzionalità ricicla il 70% dell’acido solforico mantenendo le prestazioni di controllo delle particelle, secondo ACM.
- Un cliente fonderia ha convalidato il sistema su oltre 50 livelli di processo.
- ACM prevede che la funzionalità di riciclo consentirà di risparmiare circa 400 tonnellate di acido solforico per apparecchiatura all’anno.
Indice
- ACM Research punta a ridurre il consumo di sostanze chimiche
- Il controllo delle particelle resta centrale nel progetto
- Conclusione
ACM Research punta a ridurre il consumo di sostanze chimiche
L’aggiornamento mira a ridurre l’uso di sostanze chimiche recuperando e riutilizzando l’acido solforico durante la pulizia dei wafer. ACM stima un risparmio annuo di circa 400 tonnellate per apparecchiatura, presentando questa cifra come un beneficio atteso e non come un risultato operativo già conseguito.
L’azienda ha dichiarato che un cliente fonderia aveva convalidato il sistema su oltre 50 livelli di processo, a supporto del suo impiego in un’ampia gamma di applicazioni di pulizia. L’annuncio non ha identificato il cliente.
Lo SPM viene utilizzato nella produzione di semiconduttori per rimuovere il fotoresist, eliminare residui di polimeri organici, impurità metalliche e particelle, e pulire i wafer dopo la lucidatura chimico-meccanica.
Il controllo delle particelle resta centrale nel progetto
ACM ha dichiarato che il suo sistema Hot SPM a wafer singolo raggiunge conteggi di particelle pari o inferiori a 15 per particelle di dimensioni pari o superiori a 15 nanometri. Secondo l’azienda, la nuova funzionalità di riciclo mantiene le prestazioni di controllo delle particelle entro le specifiche dei clienti.
Il sistema utilizza inoltre un design proprietario dell’ugello, concepito per prevenire la contaminazione dovuta ai depositi cristallini causati dalla nebbia acida. Secondo ACM, questo design elimina la necessità di pulire periodicamente con acqua deionizzata la camera, intervento richiesto dai sistemi convenzionali.
ACM ha affermato che il design può ridurre le esigenze di manutenzione delle apparecchiature e contribuire a migliorare i rendimenti nelle applicazioni logiche e di memoria. Questi potenziali benefici, insieme ai risparmi di acido previsti, restano aspettative dell’azienda.
Conclusione
Il miglioramento abbina prestazioni di pulizia convalidate dai clienti al riciclo dell’acido. I risparmi di sostanze chimiche previsti da ACM rappresentano un beneficio atteso, non un risultato annuo già conseguito.
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