ACM 리서치는 2026년 10월 21일, 170°C 단일 웨이퍼 핫 황산-과산화수소 혼합물(SPM) 세정 시스템에 황산 재활용 기능을 추가했다고 발표했다. 반도체 장비 공급업체인 ACM 리서치는 개선된 시스템이 고객이 요구하는 파티클 제어 성능을 유지하면서 황산 재활용률 70%를 달성한다고 밝혔다.
주요 내용
- ACM에 따르면 신기능은 파티클 제어 성능을 유지하면서 황산의 70%를 재활용한다.
- 파운드리 고객사가 50개 이상의 공정 레이어에서 시스템을 검증했다.
- ACM은 재활용 기능으로 장비당 연간 약 400톤의 황산을 절감할 것으로 예상한다.
목차
ACM 리서치, 화학물질 사용량 감축 추진
이번 업그레이드는 웨이퍼 세정 과정에서 황산을 회수해 재사용함으로써 화학물질 사용량을 줄이기 위한 것이다. ACM은 장비당 연간 약 400톤의 절감 효과를 추산했으며, 이 수치는 보고된 실제 운영 실적이 아니라 예상되는 이점으로 제시됐다.
회사는 파운드리 고객사가 50개 이상의 공정 레이어에서 시스템을 검증해 다양한 세정 용도에 사용할 수 있음을 뒷받침했다고 밝혔다. 발표에서는 해당 고객사의 이름을 공개하지 않았다.
SPM은 반도체 제조에서 포토레지스트를 제거하고, 유기 고분자 잔류물과 금속 불순물 및 파티클을 제거하며, 화학적 기계적 연마 후 웨이퍼를 세정하는 데 사용된다.
설계의 핵심은 파티클 제어
ACM은 자사의 단일 웨이퍼 핫 SPM 시스템이 15나노미터 이상 크기인 파티클을 15개 이하로 제어한다고 밝혔다. 회사에 따르면 새 재활용 기능을 추가해도 고객 사양에 맞는 파티클 제어 성능이 유지된다.
이 시스템은 산 미스트로 인해 발생하는 결정성 침전물의 오염을 방지하도록 설계된 독자적인 노즐도 사용한다. ACM에 따르면 이 설계는 기존 시스템에서 요구되는 주기적인 탈이온수 챔버 세정을 없앤다.
ACM은 이 설계가 장비 유지보수 요구 사항을 줄이고 로직 및 메모리 응용 분야의 수율 개선에 도움이 될 수 있다고 밝혔다. 이러한 잠재적 이점과 예상되는 산 절감 효과는 모두 회사의 전망이다.
결론
이번 개선은 고객이 검증한 세정 성능과 산 재활용 기능을 결합한다. ACM이 전망한 화학물질 절감은 예상되는 이점이며, 이미 달성한 연간 실적은 아니다.
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