ACM Research kunngjorde 21. oktober 2026 at selskapet har lagt til resirkulering av svovelsyre i sitt Hot Sulfuric Peroxide Mixture-system (SPM) for rengjøring av én wafer om gangen ved 170 °C. Leverandøren av halvlederutstyr sa at det oppgraderte systemet oppnår en resirkuleringsgrad for svovelsyre på 70 %, samtidig som partikkelkontrollen som kundene krever, opprettholdes.

Viktigste punkter

  • Den nye funksjonen resirkulerer 70 % av svovelsyren samtidig som ytelsen innen partikkelkontroll opprettholdes, ifølge ACM.
  • En støperikunde har validert systemet på tvers av mer enn 50 prosesslag.
  • ACM forventer at resirkuleringsfunksjonen vil spare omtrent 400 tonn svovelsyre per verktøy årlig.

Innholdsfortegnelse

ACM Research sikter mot lavere kjemikalieforbruk

Oppgraderingen skal redusere kjemikalieforbruket ved å gjenvinne og gjenbruke svovelsyre under wafer-rengjøring. ACM anslår en årlig besparelse på omtrent 400 tonn per verktøy, og presenterer dette som en forventet fordel snarere enn et rapportert driftsresultat.

Selskapet sa at en støperikunde hadde validert systemet på tvers av mer enn 50 prosesslag, noe som støtter bruken i et bredt spekter av rengjøringsoppgaver. Kunngjøringen identifiserte ikke kunden.

SPM brukes i halvlederproduksjon til å fjerne fotoresist, rester av organiske polymerer, metalliske urenheter og partikler, samt til å rengjøre wafere etter kjemisk-mekanisk polering.

Partikkelkontroll er fortsatt sentralt i utformingen

ACM sa at selskapets Hot SPM-system for rengjøring av én wafer om gangen oppnår partikkeltall på 15 eller færre for partikler som måler 15 nanometer eller mer. Selskapet sa at den nye resirkuleringsfunksjonen opprettholder ytelsen innen partikkelkontroll i tråd med kundenes spesifikasjoner.

Systemet bruker også en proprietær dyseutforming som skal forhindre kontaminering fra krystallinske avleiringer forårsaket av syretåke. Ifølge ACM gjør denne utformingen at det ikke lenger er behov for den periodiske rengjøringen av kammeret med deionisert vann som kreves i konvensjonelle systemer.

ACM sa at utformingen kan redusere vedlikeholdsbehovet for utstyret og bidra til å forbedre utbyttet innen logikk- og minneapplikasjoner. Disse mulige fordelene, sammen med de anslåtte syrebesparelsene, er fortsatt forventninger fra selskapet.

Konklusjon

Oppgraderingen kombinerer rengjøringsytelse som er validert av kunder, med resirkulering av syre. ACMS anslåtte kjemikaliebesparelser er en forventet fordel, ikke et realisert årsresultat.

Les flere nyheter

Flere nyheter fra FinanceVelix

Ansvarsfraskrivelse

Denne FinanceVelix-artikkelen gir generell informasjon, ikke personlig tilpasset finansiell, investeringsmessig, juridisk eller skattemessig rådgivning. Markedspriser, renter og økonomiske forhold kan endre seg; investeringer innebærer risiko for tap. Fakta gjenspeiler materialet som var tilgjengelig ved publisering, og kan endres. Kontroller viktig informasjon uavhengig, og rådfør deg med en kvalifisert fagperson ved behov. Omtale av en eiendel, et selskap eller en tjeneste innebærer ikke en anbefaling.