Výhľad ASML v oblasti EUV naznačuje, že v roku 2028 by sa mohlo dodať až 110 litografických systémov s extrémnym ultrafialovým žiarením, oproti prognóze 65 systémov v roku 2026. Spoločnosť tieto prognózy oznámila spolu so štvrťročnými výsledkami 28. októbra 2026, jej akcie však klesli.

Kľúčové zistenia

  • ASML predpovedala dodanie 85 systémov EUV v roku 2027 a potenciálne 110 v roku 2028.
  • Údaje o dodávkach sú prognózy, nie už uskutočnené dodávky.

Výhľad ASML v oblasti EUV na dodávky systémov

Prognózy počítajú s vyšším počtom ročných dodávok v každom z nasledujúcich dvoch rokov. Údaj za rok 2028 sa uvádza ako potenciálny cieľ, nie ako potvrdený celkový počet dodávok.

ASML zverejnila aj štvrťročné výsledky, dostupné informácie však neuvádzajú údaje o štvrťročných tržbách ani zisku.

PoložkaPodrobnosti
Prognóza na rok 202665 systémov EUV
Cieľ na rok 202785 systémov EUV
Potenciálny cieľ na rok 2028110 systémov EUV

Prečo sú systémy EUV dôležité pre výrobcov čipov

spoločnosti ASML litografické systémy EUV využívajú extrémne ultrafialové svetlo na vytváranie zložitých vrstiev pokročilých mikročipov. Spoločnosť uvádza, že jej systémy NXE sa používajú na výrobu základných vrstiev pri technologických uzloch 7 nanometrov, 5 nanometrov a 3 nanometrov.

Akcie ASML po oznámení klesli. Dostupné informácie neurčujú príčinu pohybu akcií.

Čítať ďalšie správy

Ďalšie správy FinanceVelix

Upozornenie

Tento článok FinanceVelix poskytuje všeobecné informácie, nie personalizované finančné, investičné, právne ani daňové poradenstvo. Trhové ceny, úrokové sadzby a ekonomické podmienky sa môžu meniť; investovanie je spojené s rizikom straty. Uvedené fakty vychádzajú z podkladov dostupných v čase zverejnenia a môžu sa zmeniť. Dôležité informácie si nezávisle overte a v prípade potreby sa poraďte s kvalifikovaným odborníkom. Uvedenie aktíva, spoločnosti alebo služby nepredstavuje odporúčanie.