Прогноз ASML щодо EUV-систем передбачає можливе постачання 110 систем екстремальної ультрафіолетової літографії у 2028 році порівняно з прогнозованими 65 у 2026 році. Компанія оголосила ці прогнози разом із квартальними результатами 28 жовтня 2026 року, хоча її акції знизилися.

Основні висновки

  • ASML прогнозувала поставки 85 EUV-систем у 2027 році та потенційно 110 у 2028 році.
  • Цифри щодо поставок є прогнозами, а не вже здійсненими поставками.

Прогноз ASML щодо поставок систем

Прогнози передбачають щорічне збільшення поставок упродовж кожного з наступних двох років. Показник на 2028 рік визначено як потенційну ціль, а не підтверджений загальний обсяг поставок.

ASML також оприлюднила квартальні результати, однак доступна інформація не містить даних про квартальний дохід або прибуток.

ПоказникДеталі
Прогноз на 2026 рік65 EUV-систем
Ціль на 2027 рік85 EUV-систем
Потенційна ціль на 2028 рік110 EUV-систем

Чому EUV-системи важливі для виробників мікросхем

ASML EUV-літографічні системи використовують екстремальне ультрафіолетове світло для нанесення складних шарів сучасних мікрочипів. За словами компанії, її системи NXE використовують для виробництва базових шарів за технологічними нормами 7, 5 і 3 нанометри.

Після оголошення акції ASML знизилися. Доступна інформація не встановлює причину зміни котирувань.

Читайте більше новин

Більше новин FinanceVelix

Відмова від відповідальності

Ця стаття FinanceVelix містить загальну інформацію, а не персоналізовані фінансові, інвестиційні, юридичні чи податкові рекомендації. Ринкові ціни, процентні ставки та економічні умови можуть змінюватися; інвестиції пов’язані з ризиком збитків. Факти відображають матеріали, доступні на момент публікації, і можуть змінитися. Самостійно перевіряйте важливу інформацію та за потреби консультуйтеся з кваліфікованим фахівцем. Згадка про актив, компанію чи послугу не є рекомендацією.