ASML EUV 展望顯示出貨量將持續攀升至 2028 年

ASML 的 EUV 展望指出，2028 年極紫外光光刻系統出貨量可能達到 110 台，高於 2026 年預測的 65 台。該公司於 2026 年 10 月 28 日公布季度業績時，同步發布了這些預測，但股價仍下跌。

重點摘要

• ASML 預測 2027 年將出貨 85 台 EUV 系統，2028 年則可能達到 110 台。
• 這些出貨數字是預測，並非已完成的交付量。

ASML EUV 系統出貨量展望

這些預測設想未來兩年每年的出貨量都將增加。2028 年的數字被描述為可能達到的目標，而非已確認的交付總量。

ASML 也公布了季度業績，但現有資訊未提供季度營收或盈餘數字。

EUV 系統對晶片製造商的重要性

ASML 的 EUV 光刻系統 利用極紫外光在先進微晶片上印製複雜的層。該公司表示，其 NXE 系統用於製造 7 奈米、5 奈米和 3 奈米製程節點的基礎層。

公告發布後，ASML 股價下跌。現有資訊無法確定股價變動的原因。

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