ACM Research anunció el 21 de octubre de 2026 que ha incorporado el reciclaje de ácido sulfúrico a su sistema de limpieza de obleas individuales con mezcla caliente de ácido sulfúrico y peróxido (SPM) a 170 °C. El proveedor de equipos para semiconductores afirmó que el sistema mejorado alcanza una tasa de reciclaje de ácido sulfúrico del 70%, al tiempo que mantiene el control de partículas exigido por los clientes.
Conclusiones clave
- La nueva funcionalidad recicla el 70% del ácido sulfúrico y mantiene el rendimiento del control de partículas, según ACM.
- Un cliente de fundición ha validado el sistema en más de 50 capas de proceso.
- ACM espera que la capacidad de reciclaje permita ahorrar aproximadamente 400 toneladas de ácido sulfúrico por herramienta al año.
Índice
- ACM Research busca reducir el consumo de productos químicos
- El control de partículas sigue siendo fundamental en el diseño
- Conclusión
ACM Research busca reducir el consumo de productos químicos
La mejora está concebida para reducir el uso de productos químicos mediante la recuperación y reutilización del ácido sulfúrico durante la limpieza de obleas. ACM calcula que el ahorro anual será de aproximadamente 400 toneladas por herramienta y presenta esa cifra como un beneficio previsto, no como un resultado operativo ya registrado.
La empresa afirmó que un cliente de fundición había validado el sistema en más de 50 capas de proceso, lo que respalda su uso en una amplia variedad de aplicaciones de limpieza. El anuncio no identificó al cliente.
El SPM se utiliza en la fabricación de semiconductores para eliminar la fotorresina, los residuos de polímeros orgánicos, las impurezas metálicas y las partículas, así como para limpiar obleas después del pulido químico-mecánico.
El control de partículas sigue siendo fundamental en el diseño
ACM afirmó que su sistema de SPM caliente para obleas individuales alcanza un recuento de 15 partículas o menos para partículas de 15 nanómetros o más. Según la empresa, la nueva capacidad de reciclaje mantiene el rendimiento del control de partículas dentro de las especificaciones de los clientes.
El sistema también utiliza un diseño patentado de boquilla concebido para evitar la contaminación por depósitos cristalinos causados por la niebla ácida. Según ACM, ese diseño elimina la necesidad de la limpieza periódica de la cámara con agua desionizada que requieren los sistemas convencionales.
ACM afirmó que el diseño puede reducir las necesidades de mantenimiento de los equipos y contribuir a mejorar el rendimiento en aplicaciones de lógica y memoria. Esos posibles beneficios, junto con el ahorro de ácido previsto, siguen siendo expectativas de la empresa.
Conclusión
La mejora combina un rendimiento de limpieza validado por clientes con el reciclaje de ácido. El ahorro de productos químicos proyectado por ACM es un beneficio previsto, no un resultado anual ya obtenido.
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