Las perspectivas de ASML sobre EUV apuntan a que los envíos de sistemas de litografía ultravioleta extrema podrían alcanzar los 110 en 2028, frente a una previsión de 65 en 2026. La compañía anunció estas proyecciones junto con sus resultados trimestrales el 28 de octubre de 2026, aunque sus acciones bajaron.
Conclusiones clave
- ASML prevé envíos de 85 sistemas EUV en 2027 y posiblemente 110 en 2028.
- Las cifras de envíos son proyecciones, no entregas ya realizadas.
Perspectivas de ASML sobre los envíos de sistemas EUV
Las proyecciones contemplan un aumento de los envíos anuales en cada uno de los próximos dos años. La cifra de 2028 se describe como un objetivo potencial y no como un total de entregas confirmado.
ASML también publicó sus resultados trimestrales, pero la información disponible no incluye cifras de ingresos ni de ganancias trimestrales.
| Concepto | Detalles |
|---|---|
| Previsión para 2026 | 65 sistemas EUV |
| Objetivo para 2027 | 85 sistemas EUV |
| Objetivo potencial para 2028 | 110 sistemas EUV |
Por qué los sistemas EUV son importantes para los fabricantes de chips
De ASML's sistemas de litografía EUV utilizan luz ultravioleta extrema para imprimir intrincadas capas de microchips avanzados. La compañía afirma que sus sistemas NXE se utilizan para producir capas fundamentales en los nodos de 7 nanómetros, 5 nanómetros y 3 nanómetros.
Las acciones de ASML bajaron tras el anuncio. La información disponible no permite determinar la causa del movimiento de la cotización.
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