ACM Research a annoncé le 21 octobre 2026 avoir ajouté le recyclage de l’acide sulfurique à son système de nettoyage Hot Sulfuric Peroxide Mixture (SPM) à 170 °C pour wafers individuels. Le fournisseur d’équipements pour semi-conducteurs a déclaré que le système amélioré atteint un taux de recyclage de l’acide sulfurique de 70 %, tout en maintenant le contrôle des particules exigé par les clients.

Points clés

  • Selon ACM, la nouvelle fonctionnalité recycle 70 % de l’acide sulfurique tout en maintenant les performances de contrôle des particules.
  • Un client fondeur a validé le système sur plus de 50 couches de procédé.
  • ACM estime que cette fonctionnalité de recyclage permettra d’économiser environ 400 tonnes d’acide sulfurique par équipement et par an.

Table des matières

ACM Research vise à réduire la consommation de produits chimiques

Cette mise à niveau vise à réduire l’utilisation de produits chimiques en récupérant et en réutilisant l’acide sulfurique lors du nettoyage des wafers. ACM estime les économies annuelles à environ 400 tonnes par équipement, présentant ce chiffre comme un avantage attendu plutôt que comme un résultat opérationnel constaté.

L’entreprise a indiqué qu’un client fondeur avait validé le système sur plus de 50 couches de procédé, ce qui étaye son utilisation dans un large éventail d’applications de nettoyage. L’annonce n’a pas révélé l’identité du client.

Le SPM est utilisé dans la fabrication des semi-conducteurs pour éliminer la résine photosensible, les résidus de polymères organiques, les impuretés métalliques et les particules, ainsi que pour nettoyer les wafers après le polissage mécano-chimique.

Le contrôle des particules reste au cœur de la conception

ACM a déclaré que son système Hot SPM pour wafers individuels atteint un décompte de particules de 15 ou moins pour les particules mesurant au moins 15 nanomètres. Selon l’entreprise, la nouvelle fonctionnalité de recyclage maintient les performances de contrôle des particules dans les limites des spécifications des clients.

Le système utilise également une conception de buse exclusive destinée à prévenir la contamination par des dépôts cristallins causés par le brouillard d’acide. Selon ACM, cette conception supprime la nécessité du nettoyage périodique de la chambre à l’eau déionisée requis par les systèmes conventionnels.

ACM a indiqué que cette conception peut réduire les besoins de maintenance des équipements et contribuer à améliorer les rendements dans les applications logiques et mémoire. Ces avantages potentiels, tout comme les économies d’acide projetées, restent des prévisions de l’entreprise.

Conclusion

Cette amélioration associe des performances de nettoyage validées par un client au recyclage de l’acide. Les économies de produits chimiques projetées par ACM constituent un avantage attendu, et non un résultat annuel déjà obtenu.

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