ASMLのEUV見通し、2028年まで出荷台数の増加を示唆

ASMLのEUV見通しでは、極端紫外線（EUV）リソグラフィ装置の出荷台数が2028年に最大110台となる可能性が示されており、2026年の予測65台から増加する。同社は2026年10月28日、四半期決算とともにこの予測を発表したが、株価は下落した。

主なポイント

• ASMLは、EUV装置の出荷台数を2027年に85台、2028年には最大110台と予測した。
• 出荷台数は予測であり、完了済みの納入実績ではない。

ASMLのEUV装置出荷見通し

予測では、今後2年間、それぞれの年で年間出荷台数が増加する見通しだ。2028年の数字は、確定した納入台数ではなく、達成可能な目標として示されている。

ASMLは四半期決算も発表したが、入手可能な情報には四半期売上高や利益の数値は含まれていない。

EUV装置が半導体メーカーにとって重要な理由

ASMLの EUVリソグラフィ装置 は、極端紫外線を使って先端マイクロチップの複雑な層を形成する。同社によると、NXEシステムは7ナノメートル、5ナノメートル、3ナノメートルの各ノードで基盤層を製造するために使用されている。

発表後、ASML株は下落した。入手可能な情報からは、株価変動の原因は明らかになっていない。

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