ACM Research maakte op 21 oktober 2026 bekend dat het zwavelzuurrecycling heeft toegevoegd aan zijn 170°C-systeem voor het reinigen van afzonderlijke wafers met een heet zwavelzuur-peroxidemengsel (SPM). De leverancier van halfgeleiderapparatuur zei dat het verbeterde systeem een zwavelzuurrecyclingpercentage van 70% behaalt en tegelijkertijd voldoet aan de door klanten vereiste deeltjesbeheersing.
Belangrijkste punten
- De nieuwe functie recyclet 70% van het zwavelzuur en handhaaft de prestaties op het gebied van deeltjesbeheersing, aldus ACM.
- Een foundry-klant heeft het systeem gevalideerd voor meer dan 50 proceslagen.
- ACM verwacht dat de recyclingfunctie jaarlijks ongeveer 400 ton zwavelzuur per apparaat bespaart.
Inhoudsopgave
- ACM Research streeft naar lager chemicaliënverbruik
- Deeltjesbeheersing blijft centraal staan in het ontwerp
- Conclusie
ACM Research streeft naar lager chemicaliënverbruik
De upgrade is bedoeld om het chemicaliënverbruik terug te dringen door zwavelzuur tijdens het waferreinigingsproces terug te winnen en opnieuw te gebruiken. ACM schat de jaarlijkse besparing op ongeveer 400 ton per apparaat. Het bedrijf presenteert dit als een verwacht voordeel en niet als een gerapporteerd bedrijfsresultaat.
Het bedrijf zei dat een foundry-klant het systeem had gevalideerd voor meer dan 50 proceslagen, wat het gebruik ervan in een breed scala aan reinigingstoepassingen ondersteunt. De aankondiging maakte de klant niet bekend.
SPM wordt bij de productie van halfgeleiders gebruikt om fotoresist te verwijderen, resten van organische polymeren, metaalverontreinigingen en deeltjes weg te nemen, en wafers te reinigen na chemisch-mechanisch polijsten.
Deeltjesbeheersing blijft centraal staan in het ontwerp
ACM zei dat zijn hete SPM-systeem voor afzonderlijke wafers deeltjesaantallen van 15 of minder behaalt voor deeltjes met een afmeting van 15 nanometer en groter. De nieuwe recyclingfunctie handhaaft de prestaties op het gebied van deeltjesbeheersing binnen de specificaties van klanten, aldus het bedrijf.
Het systeem maakt ook gebruik van een gepatenteerd mondstukontwerp dat verontreiniging door kristallijne afzettingen als gevolg van zuurnevel moet voorkomen. Volgens ACM maakt dit ontwerp periodieke reiniging van de kamer met gedeïoniseerd water, die bij conventionele systemen noodzakelijk is, overbodig.
ACM zei dat het ontwerp de onderhoudsvereisten voor apparatuur kan verminderen en de opbrengst bij logica- en geheugentoepassingen kan helpen verbeteren. Deze potentiële voordelen blijven, net als de verwachte zuurbesparing, verwachtingen van het bedrijf.
Conclusie
De verbetering combineert door klanten gevalideerde reinigingsprestaties met zuurrecycling. De door ACM verwachte besparingen op chemicaliën zijn een verwacht voordeel en geen gerealiseerd jaarresultaat.
Lees meer nieuws
Disclaimer
Dit artikel van FinanceVelix biedt algemene informatie en geen persoonlijk financieel, beleggings-, juridisch of fiscaal advies. Marktprijzen, rentetarieven en economische omstandigheden kunnen veranderen; beleggen brengt verliesrisico met zich mee. De feiten zijn gebaseerd op het beschikbare materiaal ten tijde van publicatie en kunnen veranderen. Controleer belangrijke informatie onafhankelijk en raadpleeg indien nodig een gekwalificeerde professional. Een vermelding van een activum, bedrijf of dienst geldt niet als aanbeveling.
