ACM Research poinformowało 21 października 2026 r. o dodaniu recyklingu kwasu siarkowego do systemu czyszczenia pojedynczych wafli metodą Hot Sulfuric Peroxide Mixture (SPM) w temperaturze 170°C. Dostawca sprzętu do produkcji półprzewodników podał, że ulepszony system osiąga 70-procentowy poziom recyklingu kwasu siarkowego, zachowując wymaganą przez klientów kontrolę cząstek.

Najważniejsze informacje

  • Według ACM nowa funkcja umożliwia recykling 70% kwasu siarkowego przy zachowaniu skuteczności kontroli cząstek.
  • Klient z branży foundry zwalidował system w ponad 50 warstwach procesu.
  • ACM spodziewa się, że funkcja recyklingu pozwoli zaoszczędzić około 400 ton kwasu siarkowego rocznie na każde urządzenie.

Spis treści

ACM Research dąży do ograniczenia zużycia chemikaliów

Modernizacja ma na celu ograniczenie zużycia chemikaliów poprzez odzyskiwanie i ponowne wykorzystanie kwasu siarkowego podczas czyszczenia wafli. ACM szacuje, że roczne oszczędności wyniosą około 400 ton na każde urządzenie, przedstawiając tę wartość jako spodziewaną korzyść, a nie odnotowany wynik operacyjny.

Firma podała, że klient z branży foundry zwalidował system w ponad 50 warstwach procesu, co potwierdza możliwość jego wykorzystania w szerokim zakresie zastosowań czyszczących. W komunikacie nie ujawniono tożsamości klienta.

SPM jest stosowane w produkcji półprzewodników do usuwania fotorezystu, pozostałości polimerów organicznych, zanieczyszczeń metalicznych i cząstek, a także do czyszczenia wafli po chemiczno-mechanicznym polerowaniu.

Kontrola cząstek pozostaje kluczowa dla projektu

ACM podało, że jego system Hot SPM do czyszczenia pojedynczych wafli osiąga wyniki wynoszące 15 lub mniej cząstek o rozmiarze 15 nanometrów i większych. Według firmy nowa funkcja recyklingu pozwala zachować skuteczność kontroli cząstek zgodnie ze specyfikacjami klientów.

System wykorzystuje również autorską konstrukcję dyszy, która ma zapobiegać zanieczyszczeniom powodowanym przez osady krystaliczne powstające wskutek mgły kwasowej. Według ACM rozwiązanie to eliminuje konieczność okresowego czyszczenia komory wodą dejonizowaną, wymaganego w konwencjonalnych systemach.

ACM podało, że konstrukcja może ograniczyć wymagania dotyczące konserwacji urządzeń i przyczynić się do poprawy uzysków w zastosowaniach logicznych i pamięciowych. Te potencjalne korzyści, podobnie jak prognozowane oszczędności kwasu, pozostają oczekiwaniami firmy.

Podsumowanie

Udoskonalenie łączy zwalidowaną przez klienta skuteczność czyszczenia z recyklingiem kwasu. Prognozowane przez ACM oszczędności chemikaliów są spodziewaną korzyścią, a nie osiągniętym rocznym wynikiem.

Więcej wiadomości

Więcej wiadomości FinanceVelix

Zastrzeżenie

Ten artykuł FinanceVelix zawiera ogólne informacje i nie stanowi spersonalizowanej porady finansowej, inwestycyjnej, prawnej ani podatkowej. Ceny rynkowe, stopy procentowe i warunki gospodarcze mogą się zmieniać; inwestycje wiążą się z ryzykiem straty. Podane fakty odzwierciedlają informacje dostępne w chwili publikacji i mogą ulec zmianie. Ważne informacje należy niezależnie zweryfikować, a w razie potrzeby skonsultować się z wykwalifikowanym specjalistą. Wzmianka o aktywach, firmie lub usłudze nie stanowi rekomendacji.