ASML의 EUV 전망은 2028년 극자외선 리소그래피 시스템 출하량이 최대 110대에 이를 수 있다고 내다봤다. 이는 2026년 전망치인 65대보다 늘어난 수치다. 회사는 2026년 10월 28일 분기 실적과 함께 이 전망을 발표했지만, 주가는 하락했다.

핵심 요점

  • ASML은 EUV 시스템 출하량을 2027년 85대, 2028년 최대 110대로 전망했다.
  • 출하량 수치는 전망치이며, 완료된 인도 물량이 아니다.

ASML의 EUV 시스템 출하 전망

전망에 따르면 향후 2년 동안 연간 출하량이 매년 증가할 것으로 예상된다. 2028년 수치는 확정된 인도 물량이 아니라 잠재적 목표치로 제시됐다.

ASML은 분기 실적도 발표했지만, 현재 제공된 정보에는 분기 매출이나 이익 수치가 포함되어 있지 않다.

항목세부 내용
2026년 전망EUV 시스템 65대
2027년 목표EUV 시스템 85대
2028년 잠재적 목표EUV 시스템 110대

EUV 시스템이 반도체 제조업체에 중요한 이유

ASML의 EUV 리소그래피 시스템은 극자외선을 사용해 첨단 마이크로칩의 복잡한 층을 인쇄한다. 회사에 따르면 NXE 시스템은 7나노미터, 5나노미터, 3나노미터 공정 노드에서 기초층을 생산하는 데 사용된다.

발표 이후 ASML 주가는 하락했다. 현재 제공된 정보만으로는 주가 변동의 원인을 확인할 수 없다.

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