ACM Research gab am 21. Oktober 2026 bekannt, dass das Unternehmen sein bei 170 °C betriebenes Einzelwafer-Reinigungssystem mit heißem Schwefelsäure-Wasserstoffperoxid-Gemisch (SPM) um ein Schwefelsäurerecycling erweitert hat. Der Anbieter von Halbleiterausrüstung teilte mit, dass das verbesserte System eine Recyclingquote von 70 % für Schwefelsäure erreicht und gleichzeitig die von Kunden geforderte Partikelkontrolle aufrechterhält.

Die wichtigsten Erkenntnisse

  • Die neue Funktion recycelt laut ACM 70 % der Schwefelsäure und erhält dabei die Leistung bei der Partikelkontrolle aufrecht.
  • Ein Foundry-Kunde hat das System für mehr als 50 Prozessschichten validiert.
  • ACM erwartet, dass die Recyclingfunktion pro Anlage jährlich rund 400 Tonnen Schwefelsäure einsparen wird.

Inhaltsverzeichnis

ACM Research will den Chemikalienverbrauch senken

Die Erweiterung soll den Chemikalienverbrauch verringern, indem Schwefelsäure während der Waferreinigung zurückgewonnen und wiederverwendet wird. ACM schätzt die jährliche Einsparung auf rund 400 Tonnen pro Anlage. Das Unternehmen stellt diesen Wert als erwarteten Vorteil und nicht als bereits erzieltes Betriebsergebnis dar.

Nach Angaben des Unternehmens hat ein Foundry-Kunde das System für mehr als 50 Prozessschichten validiert, was seinen Einsatz für ein breites Spektrum von Reinigungsanwendungen unterstützt. In der Mitteilung wurde der Kunde nicht genannt.

SPM wird in der Halbleiterfertigung zum Abtragen von Fotolack, zum Entfernen organischer Polymerreste, metallischer Verunreinigungen und von Partikeln sowie zur Reinigung von Wafern nach dem chemisch-mechanischen Polieren eingesetzt.

Partikelkontrolle bleibt zentral für das Design

ACM zufolge erreicht sein Einzelwafer-System mit heißem SPM eine Partikelzahl von höchstens 15 bei Partikeln mit einer Größe von mindestens 15 Nanometern. Die neue Recyclingfunktion erhält laut Unternehmen die Partikelkontrolle innerhalb der Kundenspezifikationen aufrecht.

Das System verwendet außerdem ein proprietäres Düsendesign, das Verunreinigungen durch kristalline Ablagerungen infolge von Säurenebel verhindern soll. ACM zufolge macht dieses Design die bei herkömmlichen Systemen erforderliche regelmäßige Reinigung der Kammer mit deionisiertem Wasser überflüssig.

ACM erklärte, das Design könne den Wartungsaufwand für die Anlagen verringern und dazu beitragen, die Ausbeute bei Logik- und Speicheranwendungen zu verbessern. Diese potenziellen Vorteile sowie die prognostizierten Säureeinsparungen sind weiterhin Erwartungen des Unternehmens.

Fazit

Die Erweiterung verbindet eine vom Kunden validierte Reinigungsleistung mit dem Recycling von Säure. Die von ACM prognostizierten Chemikalieneinsparungen sind ein erwarteter Vorteil und kein bereits erzieltes Jahresergebnis.

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